近日，廣東省大灣區集成電路與系統應用研究院計算光刻研發中心主任、國家級高端技術人才專家、中國科學院微電子研究所研究員韋亞一與研究員粟雅娟蒞臨粵芯半導體。

2020年突如其來的新冠肺炎疫情正在以前所未有之勢改變著人們的生活和工作方式，并對全球經濟造成了一定的沖擊。新一代信息技術在疫情防控中發揮重要作用，這也使得信息行業的基石—芯片產業再一次被聚焦在全國人民的聚光燈下。我國集成電路市場需求龐大,但整體技術、制造工藝與國外差距較大, 掌握國際先進制造技術的重要性不言而喻。

面對快速發展的芯片市場，粵芯半導體在加快釋放產能的同時，也將在先進制程技術的研發上持續加碼投入。光刻作為先進制程的卡脖子關口，需要優先攻克。在這次合作調研上，韋教授從當前集成電路制造的光刻工藝需求出發，詳細介紹和分析了當前光刻工藝的發展趨勢，系統性地對光刻工藝模塊的關鍵要素、銜接關系進行了梳理，結合粵芯半導體當前技術節點的特征，厘清了工藝中可能遇到的問題和風險，并給出相應的技術解決方案。在座談會上，粵芯半導體光刻工程師們還不忘就晶圓廠在實際的生產工藝研發過程中所遇到的問題與韋教授一行進行了面對面的深入交流，學術交流氛圍濃厚。

此次中科院微電子研究所與粵芯半導體的產學研合作對粵芯、粵芯人來說都是一種極大的鼓舞。在未來，粵芯半導體將加速推進先進制程技術的研發和產能的進一步釋放，為中國半導體產業鏈的良性發展貢獻一份粵芯力量！