9月10日消息，前不久引發關注的臺積電2nm工藝技術遭竊取一案已經真假，9人涉案，有3人獲罪7-9年不等。
這起案子中最引人關注的就是日本KEL威力科創也牽涉了進來，被判14年的主犯陳某從臺積電離職之后加入了這家公司，正是他聯系臺積電的前同事拍攝上千張涉及2nm工藝的照片。
不過威力科創此前表示已開除該員工，并撇清與竊密案的關系，表示經該公司內部調查，截至目前未發現相關機密信息外泄至第三方，亦未發現有組織性地指示該名前員工獲取不當信息的行為。
然而這也沒法完全洗清他們的嫌疑，此前該公司已經派高管前去臺積電負荊請罪，上月底傳出還會再派社長拜會臺積電高層，再次請罪。
這兩天借著半導體展會的機會，KEL社長河合利樹缺席了已公布行程的公開活動，選擇去新竹拜會臺積電CEO魏哲家，兩人私下會談，內容不會公開。
預計它會針對此前的2nm竊密案親自向臺積電表達歉意，并提出善后方案，只是具體的措施沒有公布。
KEL是全球TOP級半導體設備商，臺積電是其關鍵客戶之一，兩家合作數十年，也不太可能因為此事斷絕關系，預計還是會從商業利益角度做些彌補，采購刻蝕設備打折之類的，畢竟臺積電的2nm工藝也需要先進的刻蝕機。
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