工業自動化最新文章 俄羅斯光刻機路線圖曝光 9月28日消息，俄羅斯計算機與數據科學博士Dmitrii Kuznetsov近日通過X平臺曝光了俄羅斯最新的光刻機研發路線圖，顯示俄羅斯最快將在2026年完成65-40nm分辨率的光刻機的研發，2032年前完成28nm分辨率的光刻機的研發，并最終在2036年前完成可以生產10nm以下先進制程的全新極紫外線光（EUV）光刻機的研發。 發表于：9/30/2025 imec宣布取得兩項High NA EUV光刻突破性成就 近日，在美國加利福尼亞州蒙特雷舉辦的 “2025 SPIE 光掩模技術 + EUV 光刻會議上”，比利時微電子研究中心（imec） 展示了單次打印High NA EUV 光刻的兩項突破性成就： 發表于：9/30/2025 三星2nm晶圓代工報價將下調至2萬美元搶客戶 9月27日消息，據臺媒DigiTimes報道，為了與臺積電2nm（N2）制程競爭，三星已經將其2nm（SF2）制程晶圓的代工報價下調至20000美元，相比傳聞的臺積電2nm晶圓代工報價30000美元低了三分之一。 發表于：9/30/2025 黃仁勛：中國芯片僅落后美國幾納秒 9月29日消息，作為行業最前線的從業者，中國芯片跟美國相比到底還有多少差距，黃仁勛給出了真實的答案。 英偉達首席執行官黃仁勛近日表示，中國在芯片領域僅落后美國“幾納秒”，在芯片研發和制造方面具有極強的潛力。他呼吁美國政府允許美國科技企業在中國等市場競爭，以“提高美國的影響力”。 發表于：9/30/2025 特斯拉正全力推進Optimus人形機器人的規?；a 9 月 29 日消息，埃隆?馬斯克表示，特斯拉正全力推進“擎天柱”（Optimus）人形機器人的規?；a。在他看來，這款產品最終將成為特斯拉旗下最重要的產品。 發表于：9/30/2025 臺積電再次否認投資英特爾 9月29日消息，據報道，臺積電否認了與Intel就投資或合作事宜進行談判的傳聞。 近日有報道稱Intel正尋求與臺積電合作或入股投資，此外還提到Intel正在與蘋果接觸，探討與這些科技巨頭之間的合作可能性。 發表于：9/30/2025 六大半導體巨頭EUV光刻機數量曝光 BOFA數據顯示，2021-2025年臺積電年均購入約25臺EUV光刻機，僅2024年降至10臺，累計107臺，為全球唯一破百廠商；三星歷年10-15臺，2024年僅3臺，合計55臺，居次；SK海力士前期采購少，近兩年集中下單，共26臺；Intel此前保守，2024年零采購，累計25臺；美光2024年首次購入5臺；日本Rapidus為2027年量產2nm已下單EUV，年內已展示2nm晶圓。 發表于：9/30/2025 美國政府可能不會根據使用的芯片數量來對設備征稅 9月29日消息，據路透社此前報道，美國政府正在評估一項計劃，根據進口電子產品所包含的芯片數量及其在設備中的估計價值對進口電子產品征稅。然而，實施此類關稅存在明顯的困難，可能不會真正施行。 發表于：9/30/2025 臺積電3nm及5nm產能利用率將達100% 9月27日消息，據臺媒《工商時報》報道，有芯片設計業者透露，臺積電3nm與5nm產能持續滿載，產能利用率（UTR）明年上半年將達到近100%水平， 其中3nm制程訂單更是被大廠訂滿，比如手機芯片巨頭高通、蘋果、聯發科，在HPC領域則有英偉達Rubin等加持，市場需求也超預期。 發表于：9/30/2025 NVIDIA利用全新開源模型與仿真庫加速機器人研發進程 NVIDIA 在2025年機器人學習大會（CoRL）上宣布，開源物理引擎 Newton 現已可以通過 NVIDIA Isaac? Lab 獲取，同時推出的還有用于機器人技能的開源推理視覺語言動作模型 NVIDIA Isaac GR00T N1.6，以及全新 AI 基礎設施。 發表于：9/30/2025 芯原推出基于FD-SOI工藝的無線IP平臺 2025年9月24日，芯原股份今日發布其無線IP平臺，旨在幫助客戶快速開發高能效、高集成度的芯片，廣泛應用于物聯網和消費電子領域。 發表于：9/28/2025 Melexis以新型電機驅動芯片推動設計簡化 全球微電子工程公司Melexis宣布，推出配備PWM/串行接口的新型嵌入式電機驅動芯片MLX81339。 發表于：9/28/2025 臺積電1.4nm制程進度超前 據外媒Wccftech近日報道，根據The Futurum Group半導體分析師Ray Wang通過社交平臺X公布的信息稱，臺積電A14制程的“良率表現”（yield performance）進展已經超初原定進度。 發表于：9/26/2025 Intel加碼訂購ASML High-NA EUV光刻機 9月25日消息，據報道，Intel正在加碼采購ASML的High-NA EUV光刻機，計劃購買兩臺相關設備，這一數量較之前計劃的單臺設備翻了一番。ASML的High-NA EUV光刻機不僅價格高昂，更能夠實現更高的分辨率和更精細的芯片制造關鍵，是未來高端芯片制造的關鍵。 發表于：9/26/2025 2025年1-8月日本半導體設備銷售額同比增長19.2% 9月24日，日本半導體制造裝置協會（SEAJ）公布統計數據指出，今年8月份日本制造的半導體設備銷售額（3個月移動平均值、包含出口）為4,057.64億日元，同比增長15.6%，并且連續第20個月呈現增長，增幅連續17個月達2位數（10%以上），月銷售額連續10個月高于4,000億日元，創1986年開始進行統計以來歷史同期新高紀錄。不過，如果和上個月相比，下滑1.3%，是近4個月來第三度呈現環比下滑。 發表于：9/26/2025 ?12345678910…?
