今日早些時候，SK海力士發布公告，表示公司已經在本月開始批量生產基于 1anm 工藝的8千兆（Gb）的LPDDR4移動 DRAM的量產。據介紹，這是SK海力士的第四代 10nm 工藝技術。

　　由于半導體行業對 10nm DRAM 產品進行分類，以字母命名，因此 1a 技術是繼 1x、1y 和 1z 的前三代之后的第四代技術。SK海力士計劃從2021年下半年開始向智能手機制造商提供最新的移動DRAM產品。

　　SK海力士強調，這是公司在1ynm DRAM部分采用，證明尖端光刻技術穩定性后，首次采用EUV設備進行DRAM的批量量產。

　　隨著技術遷移繼續向超微級發展，越來越多的半導體公司采用 EUV 設備進行光刻工藝，在晶圓表面繪制電路圖案。行業專家認為，一家半導體公司在技術上的領先地位將取決于它如何充分利用 EUV 設備。SK hynix 計劃將 EUV 技術用于生產其所有 1anm DRAM 產品，因為它已經證明了該工藝的穩定性。

　　SK海力士期待新技術帶來生產力的提升，并進一步提升成本競爭力。該公司預計，與之前的 1znm 節點相比，1anm 技術將使相同尺寸的晶圓生產的 DRAM 芯片數量增加 25%。SK海力士預計，隨著全球DRAM需求的增加，1anm DRAM也可能有助于緩解全球市場的供需狀況。

　　SK海力士指出，新產品穩定運行4266Mbps，是標準LPDDR4移動DRAM規范中最快的傳輸速率，并降低了20%的功耗。對于 SK 海力士來說，這是一項有意義的成就，因為它旨在減少二氧化碳排放，作為其對環境、社會和治理 （ESG） 管理承諾的一部分。

　　SK 海力士將從明年初開始將其 1anm 技術應用于其 DDR5 產品，該產品是2020 年 10 月推出的全球首款下一代 DRAM 。

　　SK hynix 副總裁Cho Youngmann表示：“隨著生產力和成本競爭力的提高，最新的 1anm DRAM 不僅有助于確保高盈利能力，而且通過早期采用 EUV 光刻技術，鞏固 SK 海力士作為領先技術公司的地位用于批量生產?！?/p>

　　為了滿足公司的EUV需求，在今年二月，南韓記憶體大廠SK海力士宣布與艾司摩爾（ASML）達成一項為期5年的采購合約，向后者購入價值約43.4億美元的EUV光刻機設備。

　　SK 海力士透過監管文件表示，這筆交易是為了下一代晶片工藝制程的大規模生產作準備。

　　日經此前報導稱，為擴充芯片產能，SK海力士已耗資約31.3億美元于首爾打造新產線M16，計劃今年下半年啟動量產。

　　根據上述報導，M16產線主要生產第4代10納米制程的DRAM記憶體。當時預計，若包含EUV等設備成本在內，至少需投入140億美元于M16廠。

　　三大DRAM大廠啟動EUV制程競賽

　　據Digitimes報道，繼南韓記憶體大廠三星電子（Samsung Electronics）、SK海力士（SK Hynix）相繼導入極紫外光曝光設備（EUV）量產10納米級DRAM記憶體生產，原本態度不明的美光（Micron）也釋出將編列資本支出向荷蘭ASML采購EUV設備。

　　盡管美光在未使用EUV設備下，近來大幅縮小與競爭對手的差距，并正式量產出貨1α制程，但據推測，美光于2024年開始采用EUV設備投入生產，將可望導入于1c或1d制程量產，將掀起記憶體大廠新一波銀彈攻勢與先進技術競逐的角力賽。

　　在DRAM制程推進下，三星電子2020年率先宣布將采用EUV技術量產1z納米制程DRAM，但初期僅針對1個層（layer）采用EUV制程；如今三星和SK海力士分別計劃將于2021年使用EUV應用于量產1α納米DRAM，在國際三大DRAM巨擘中，僅有美光并未積極推動EUV設備，外界也不時傳出美光有意招聘人才，并研究導入EUV設備規劃。

　　隨著美光在第3財季（截至6月3日）的財報表現亮眼，美光執行長Sanjay Mehrotra維持先前樂觀看法，2022年底前NAND Flash以及DRAM供給將依然吃緊，且價格將維持高檔。

　　根據美光資料，DRAM位元出貨量雖然季增低個位數百分比成長，但ASP單價卻上漲達20%，反應出DRAM供給吃緊帶動價格強勁走揚，成為2021年產業獲利成長的金雞母，業界認為，三大DRAM廠雖然不愿大幅擴充產能打壞市場價格，但祭出重金投資DRAM設備及生產效率才能維持產業競爭力的優勢。

　　美光指出，2021年度整體資本支出將超過95億美元，其中，將有部分支出跟采購EUV設備有關，這也是美光近年來首度正面釋出EUV設備投資的看法，主要是考量到EUV設備需要很長的交期，因而必須對EUV設備訂單提前下單，美光高層指出，將會于2024年開始采用EUV設備投入生產。

　　美光位于臺灣臺中后里A3廠近日正式啟用，并從2021年初進入1α奈米制程節點的量產出貨，據指出，美光最早曾在1z納米制程曾討論過采用EUV設備，因此當初A3廠進行內部設計規劃時，不僅預先準備EUV制程的空間，甚至特地將整體廠房的樓層打掉后再全面調高，而自動運輸系統設計也配合進行調整，不過基于成本考量，美光至今仍采用浸潤式設備及配合其他制程來提升量產效率。

　　由于EUV曝光機每臺要價約達1.8億美元左右，在近年來謹慎擴產的營運策略下，美光也指出，目前臺灣美光的晶圓廠已具備導入EUV制程的能力與條件，但內部仍在研究與評估階段，將依照生產成本、效率、投資回報率等條件配合才考慮導入。

　　記憶體業界指出，美光采用EUV設備態度是三家DRAM大廠中最為保守，但近年來全球EUV設備產能確實是供不應求，雖然三星電子提前業界采用EUV設備量產1z納米，不過1z納米推動進度卻并未維持領先，反導致競爭對手趁隙追趕。

　　雖然相關數據顯示，EUV技術有利于提升三星生產效率，并縮小DRAM 的節點設計尺寸，但原本領先業界開發先進制程的腳步卻也逐漸被拉近。

　　在EUV設備需求強勁下，ASML預期2021年EUV設備出貨介于45~50臺，2022年預估出貨量達到55臺，并全面改為新一代設備，新設備可協助客戶的每天晶圓曝光量提升15~20 %。

　　隨著臺積電提升資本支出至300億美元，用于建置5奈米及3奈米EUV產能，三星晶圓代工及記憶體同步擴充EUV生產線，SK海力士加碼投資M16工廠，目前已安裝完成首條EUV生產線，從2021年下半正式量產1α制程DRAM，而美光可望于2023年~2024年進行轉換至1c制程，屆時可望加入眾家國際大廠EUV設備量產的行列。