高集成度多標記光刻版版圖的快速處理技術
2022年電子技術應用第9期
黃翔宇，馬協力，金焱驊
中電國基南方集團有限公司，江蘇 南京211153
摘要： 介紹了一種高集成度多標記光刻版版圖的快速處理技術。其中包括以下四個模塊： chip芯片排布模塊、標記排布模塊、芯粒數統計模塊和自動版號模塊。在版圖編輯工具L-edit中使用這些模塊可以大幅提升微光刻中的高集成度多標記光刻版版圖的排布效率并提高準確度，從而有效縮短掩膜版的生產周期。
中圖分類號： TN405
文獻標識碼： A
DOI：10.16157/j.issn.0258-7998.222562
中文引用格式： 黃翔宇，馬協力，金焱驊. 高集成度多標記光刻版版圖的快速處理技術[J].電子技術應用，2022，48(9)：67-69，74.
英文引用格式： Huang Xiangyu，Ma Xieli，Jin Yanhua. Rapidly processed technology of highly integrated and multi-label photolithography[J]. Application of Electronic Technique，2022，48(9)：67-69，74.
文獻標識碼： A
DOI：10.16157/j.issn.0258-7998.222562
中文引用格式： 黃翔宇，馬協力，金焱驊. 高集成度多標記光刻版版圖的快速處理技術[J].電子技術應用，2022，48(9)：67-69，74.
英文引用格式： Huang Xiangyu，Ma Xieli，Jin Yanhua. Rapidly processed technology of highly integrated and multi-label photolithography[J]. Application of Electronic Technique，2022，48(9)：67-69，74.
Rapidly processed technology of highly integrated and multi-label photolithography
Huang Xiangyu，Ma Xieli，Jin Yanhua
China Power Guoji South Group Co.，Ltd.，Nanjing 211153，China
Abstract： This paper introduces a rapidly processed technology of highly integrated and multi-label photolithography. It includes the following four modules: arranged module of chips, arranged module of multi-label, chips′ counting module and automatic module of photolithography′s mark. Using these modules in Layout-edit (L-edit) can greatly improve the efficiency and accuracy of highly integrated and multi-label photolithography layout. Finally, it can shorten the production cycle of photolithography effectively.
Key words : micro-lithography；highly integrated；rapidly processed；photolithography
0 引言
光刻技術最早應用于半導體分立器件和集成電路中的微細加工。光刻技術是現代半導體、微電子、信息產業的基礎；在發光二極管、平板顯示、先進封裝、磁頭及精密傳感器等泛半導體行業中有著廣泛的應用。隨著各行業技術的不斷提升，作為微電子技術工藝基礎的微光刻技術[1-3]在半導體器件和集成電路研制開發中的特征尺寸越來越小，加工尺寸逐步進入深亞微米、百納米以至納米級。微電子技術的核心是集成電路的制造技術，而集成電路的制造技術的第一步就是集成電路的電路設計技術。因此微光刻技術發展同樣也離不開電子設計自動化技術[4-7]的進步。Tanner Research Inc公司開發的L-edit軟件[8-10]提供了用戶編程接口UPI供用戶擴展其功能，同時提供了大量的UPI函數擴展命令集，極大地增加了L-Edit軟件的版圖處理能力和靈活性。UPI的核心是宏界面，宏可以是用C++文件，或編譯過的動態鏈接庫。這樣可以方便地和集成電路掩模版版圖編輯工具軟件L-edit連接，彌補現有的掩模版版圖處理體系[11-14]中人工繪制版圖這個薄弱環節，極大地提高了目前集成電路版圖設計工具軟件[15]繪圖效率與準確度，使其更能適用于微電子、微光學、發光二極管等微光刻領域的高集成度復雜圖形設計。本文采用C++對L-edit軟件進行二次開發，實現微光刻領域的高集成度復雜版圖的快速處理功能。
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作者信息：
黃翔宇，馬協力，金焱驊
(中電國基南方集團有限公司，江蘇 南京211153)
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