外媒報道指美國芯片企業美光已量產無需EUV光刻機的1β（1－beta）制造工藝，主要是因為ASML的EUV光刻機實在太昂貴了，它希望繞開EUV光刻機來降低生產成本，這對ASML來說無疑是又一個重大打擊。

業界都清楚光刻機非常昂貴，第一代EUV光刻機售價達到1．2億美元，第二代EUV光刻機更將達到4億美元，昂貴的EUV光刻機讓芯片制造企業難以承受，但是為了推進先進工藝，它們還是無奈接受。

不過在諸多芯片制造企業當中也有另類，日本的存儲芯片企業鎧俠就開辟了無需光刻機的芯片制造工藝NIL，據悉鎧俠早已將NIL工藝投入生產，大幅降低了成本，如今NIL工藝已達到10nm以下，預計可以應用于5nm工藝生產。

日本成功開發無需光刻機的NIL工藝給全球芯片行業帶來啟發，不過美光研發的1β（1－beta）制造工藝仍然需要ASML的DUV光刻機，只是繞開了價格昂貴的EUV光刻機，據悉美光的1β（1－beta）制造工藝可以提高能效15％，存儲密度則提升35％以上，達到世界領先水平。

隨著美光研發出繞開EUV光刻機的芯片制造工藝，未來或許幾家存儲芯片企業三星、SK海力士等也會跟進，畢竟如今存儲芯片價格大跌，降低成本成為存儲芯片企業生存的關鍵，如果三星和SK海力士不跟進，那么它們將可能因為成本問題而落后于美光。

EUV光刻機是ASML賴以自豪的先進技術，全球僅有ASML能生產EUV光刻機，日本兩家光刻機企業佳能、尼康只能生產DUV光刻機，然而ASML如今卻已面臨EUV光刻機難賣的局面。

臺積電已關閉4臺EUV光刻機，目前還面臨著先進工藝產能過剩，為此以要求員工休無薪假期；Intel則已完成Intel 4工廠建設；三星的3nm工藝投產后面臨無客戶的問題，這三家購買EUV光刻機的大客戶都不可能繼續采購，如今美國芯片企業美光又宣布繞開EUV光刻機，那么ASML的EUV光刻機還能賣給誰？

ASML或許該考慮中國芯片客戶了，由于眾所周知的原因，ASML無法對中國出售EUV光刻機，然而如今環境下，中國大陸以外的芯片制造企業都已不可能采購EUV光刻機，而ASML本來還計劃倍增EUV光刻機產能，那么它如果還不能對中國出售EUV光刻機，這些EUV光刻機就會成為庫存。

全球芯片行業的衰退也給ASML帶來壓力，過去兩年全球大舉擴張芯片制造產能，ASML由此獲得厚利，然而今年下半年以來全球芯片行業步入下行階段，芯片制造企業不僅不會擴張產能，還在收縮產能，而中國大陸則為了推進芯片自給率繼續推進產能擴張，可以說中國芯片已是ASML的救命稻草。

這個時候ASML就不得不考慮自己的生存問題了，如今的ASML確實處于輝煌頂峰，然而2005年之前它可是為生存而發愁，它也不想再回到那種吃了上頓沒下頓的日子吧，面對中國芯片市場這個大蛋糕，它需要考慮下如何打破限制而對中國出售EUV光刻機的問題了。

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